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        KRI考夫曼射頻離子源RFICP140濺射沉積 BCx 薄膜

        起訂量: 面議
        價(jià) 格: 面議
        品牌: KRI
        供貨總量: 面議
        發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
        所在地: 上海
        有效期至: 長(zhǎng)期有效
        最后更新: 2023-07-20 16:58
        關(guān)注人數(shù): 1052
        公司基本資料信息
        伯東企業(yè)(上海)有限公司
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        地區(qū)上海
        地址上海市外高橋保稅區(qū)希雅路33號(hào)17號(hào)樓B座3層,200131
        • 品牌:
          KRI
        • 發(fā)貨期限:
          自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
        • 所在地:
          上海

        蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結(jié)構(gòu)特征、力學(xué)性能和摩擦磨損性能試驗(yàn)中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源濺射碳化硼靶和石墨靶(純度均為99.9%, CrMoAl 齒輪鋼和 Si100)表面沉積 BCx 薄膜

         

        伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術(shù)參數(shù):

        型號(hào)

        RFICP140

        Discharge

        RFICP 射頻

        離子束流

        >600 mA

        離子動(dòng)能

        100-1200 V

        柵極直徑

        14 cm Φ

        離子束

        聚焦平行散射

        流量

        5-30 sccm

        通氣

        Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

        典型壓力

        < 0.5m Torr

        長(zhǎng)度

        24.6 cm

        直徑

        24.6 cm

        中和器

        LFN 2000

         

        試驗(yàn)結(jié)論:

        相同的沉積時(shí)間內(nèi), BCx 薄膜的厚度隨石墨靶電流的增加逐漸增大硬度、彈性模量逐漸降低,微觀形貌的柱狀結(jié)構(gòu)特征越來越明顯;增加石墨靶電流可以提高BCx薄膜的摩擦學(xué)性能當(dāng)石墨靶電流為 2.4A 時(shí), BCx 薄膜的摩擦因數(shù)穩(wěn)定在 0.2 左右且具有**佳的耐磨性能。

         

        KRI 離子源的**特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實(shí)現(xiàn)的.

         

        KRI 離子源是**域公認(rèn)的**導(dǎo)者已獲得許多專利. KRI 離子源已應(yīng)用于許多已成為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的過程中.

         

        伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵檢漏儀質(zhì)譜儀真空計(jì)美國(guó) KRI 考夫曼離子源美國(guó)HVA 真空閥門美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī)美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品**的指定代理商.

         

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