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        KRI 考夫曼射頻離子源成功用于多靶磁控濺射鍍膜機

        起訂量: 面議
        價 格: 面議
        品牌: KRI
        供貨總量: 面議
        發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
        所在地: 上海
        有效期至: 長期有效
        最后更新: 2023-07-17 10:14
        關注人數(shù): 1166
        公司基本資料信息
        伯東企業(yè)(上海)有限公司
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        地區(qū)上海
        地址上海市外高橋保稅區(qū)希雅路33號17號樓B座3層,200131
        您還可以:
        • 品牌:
          KRI
        • 發(fā)貨期限:
          自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
        • 所在地:
          上海

         OEM 廠商為了提高鍍膜機鍍膜的品質(zhì)其為客戶搭建的多靶磁控濺射鍍膜機的濺射源采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000, 真空腔體搭配的是伯東 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 2300.

         

        KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數(shù):

        射頻離子源型號

        RFICP380

        Discharge 陽極

        射頻 RFICP

        離子束流

        >1500 mA

        離子動能

        100-1200 V

        柵極直徑

        30 cm Φ

        離子束

        聚焦平行散射

        流量

        15-50 sccm

        通氣

        Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

        典型壓力

        < 0.5m Torr

        長度

        39 cm

        直徑

        59 cm

        中和器

        LFN 2000

         

        KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術參數(shù):

        離子源型號

        eH3000

        eH3000LO

        eH3000MO

        Cathode/Neutralizer

        HC

        電壓

        50-250V

        50-300V

        50-250V

        電流

        20A

        10A

        15A

        散射角度

        >45

        可充氣體

        Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

        氣體流量

        5-100sccm

        高度

        6.0“

        直徑

        9.7“

        水冷

        可選

        F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

         

        渦輪分子泵 HiPace 2300 技術參數(shù):

          型號

          接口 DN

          抽速 l/s

          壓縮比

          **高啟動壓強hPa

          極限壓力

          全轉(zhuǎn)速氣體流量hPa l/s

          啟動時間

          重量

          進氣口

          聯(lián)系時請說是在機電商情網(wǎng)看到我的,謝謝!