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        KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 Ir 膜

        起訂量: 面議
        價 格: 面議
        品牌: KRI
        供貨總量: 面議
        發貨期限: 自買家付款之日起 3 天內發貨
        所在地: 上海
        有效期至: 長期有效
        最后更新: 2023-06-05 09:51
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        公司基本資料信息
        伯東企業(上海)有限公司
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        地址上海市外高橋保稅區希雅路33號17號樓B座3層,200131
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          KRI
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        銥 (Ir) 是一種很好的真空紫外反射材料. 在 50100nm 的波長范圍內, Ir 膜反射率比此波長范圍內常用材料 Au、Pt 都高, 雖比 Os 膜反射率稍低, 但后者時效效應嚴重. 相比之下, 空氣中的時效對 Ir 膜反射率幾乎沒有影響, 考慮綜合性能, Ir 膜在真空紫外波段 50100nm 范圍內**佳.

         

        安徽某大學課題租采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 , 在石英、K9 玻璃和 Si 基片上濺射沉積不同厚度的 Ir 膜各種不同厚度的 Ir 膜, 研究基片、表面厚度、離子束能量對 Ir 膜反射率的影響.

         

        伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術參數:

        離子源型號

        RFICP220

        Discharge

        RFICP 射頻

        離子束流

        >800 mA

        離子動能

        100-1200 V

        柵極直徑

        20 cm Φ

        離子束

        聚焦,   平行,   散射

        流量

        10-40 sccm

        通氣

        Ar,   Kr,   Xe,   O2,   N2,   H2,   其他

        典型壓力

        < 0.5m Torr

        長度

        30 cm

        直徑

        41 cm

        中和器

        LFN 2000

        * 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

        KRI 射頻離子源 RFICP 220

        試驗中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220  輔助磁控濺射沉積的方法獲得均勻致密、大面積的 Ir 膜, 沉積過程中通過調節參數, 沉積時間等從而得到不同厚度的 Ir 薄膜材料, 滿足各種試驗需求.

         

        KRI 離子源的**特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

         

        因此,  該研究項目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.

         

        伯東是德國 Pfeiffer 真空泵,  檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品**的指定代理商.

         

        若您需要進一步的了解詳細信息或討論,   請參考以下聯絡方式:

        上海伯東: 羅**生                               臺灣伯東: 王女士
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